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靶材在半导体当中的应用情况

  靶材在半导体当中的应用情况

  对靶材用量较大的行业主要有半导体集成电路、平板显示器、太阳能电池、磁记录介质、光学器件等(这些就是按应用分类的)。其中,高纯度溅射靶材主要用于对材料纯度、稳定性要求更高的领域,如半导体、平板显示器、太阳能电池、磁记录介质等。


  在所有应用中,半导体对溅射靶材的技术要求和纯度高,价格也为昂贵,这方面的要求明显高于平面显示器、太阳能电池等其他应用领域。半导体芯片对溅射靶材的金属材料纯度、内部微观结构等方面都设定了其苛刻的标准,若溅射靶材的杂质含量过高,形成的薄膜就无法达到使用所要求的电性能,且在溅射过程中易在晶圆上形成微粒,导致电路短路或损坏,将严重影响薄膜的性能。

  芯片制造对溅射靶材金属纯度的要求高,通常要达到99.9995%以上,而平板显示器、太阳能电池分别要求达到 99.999%、99.995%以上即可。

  除了纯度之外,芯片对溅射靶材内部微观结构等也设定了其苛刻的标准,需要掌握生产过程中的关键技术,并经过长期实践才能制成符合工艺要求的产品。

  超高纯度金属及溅射靶材是电子材料的重要组成部分,溅射靶材产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节,其中,靶材制造和溅射镀膜环节是整个溅射靶材产业链中的关键环节。

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